R&D 소개
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01
신소재 개발
- Dry Etcher용 고내식 실리콘·세라믹·복합소재 개발
- 플라즈마 내환경 안정성 강화
- 코팅 ·표면처리 기술 확보
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02
초정밀 가공 기술
- 수 µm급 정밀가공 기술 확보
- 곡면·특수형상 가공 역량 강화
- 비접촉 측정 기반 공정 정밀도 향상
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03
분석 및 시뮬레이션
- 물성·성분 분석 및 평가 시스템 구축
- 가공 시뮬레이터 기반 공정 예측
- 데이터 기반 설계 최적화
씨엠티엑스 경쟁 우위 원천
선도적 기술 확보
(지속 가능한 성장 기반 마련)
- 기술 선도 : 신기술, 특허 출원을 통한 차세대 성장동력 발굴
- 기술 내재화 : 핵심기술의 자립화 및 독자적 경쟁력 확보
- 공정 개선 및 원가절감 : 효율적인 프로세스 혁신을 통한 생산성 향상 목표
- 고객 가치 창출 : 기술협업 및 기술자산 확대